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愛德華半導體干泵
更新時間:2020-10-14   點擊次數(shù):3635次

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半導體干泵iXM 系列 —— 低能耗性能

通過增加正常運行時間、減少對環(huán)境的影響以及良好的成本效益,iXM 低能耗干泵可為您的關鍵應用帶來真正的制程改進。

高效的根源機制可將輸入功率減少多達 60%,從而減少對環(huán)境的影響并降低總體使用成本
氣體阻隔技術和隔熱設計方面的改進使產品的抗腐蝕性比我們之前的系列提高了四倍
先進的粉塵處理功能可為多層蝕刻工藝提供更高的可靠性,延長真空泵使用壽命,并降低 CVD 工藝的功耗
緊湊輕巧的設計,加上極低的噪聲和振動,可提供更多的用途
采用 Xcede 技術,增強了耐腐蝕性。

半導體干泵用于重型應用的 iXH 系列

iXH 干泵系列為嚴苛的工藝能力、可靠性和更低的擁有成本樹立了新標準。


寬廣的溫度范圍使您可以對真空設備進行優(yōu)化,更大地減少冷凝和電鍍的副產物累積
iXH Mk2 干泵可在嚴苛的工藝中提供更長的使用壽命,并且可以顯著提高功效
創(chuàng)新的密封技術可以延長制程壽命并降低泄漏風險
采用 Xcede 技術,增強了耐腐蝕性。


半導體干泵用于輕型應用的 iXL 系列

iXL 系列是系列低能耗緊湊型干泵,適用于輕量應用,例如晶片處理、PVD 和計量。

快速腔體抽空和極低功耗 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵是輕量應用中小、安靜的泵之一 
iXL600M 和 iXL1000M 兩種型號經過工藝加固,專門設計用于電介質(氧化)蝕刻和其他類似應用 
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干泵具有高抽取速度和低能耗的特點
iXL900R 是目前同類產品中速度快的負載鎖定泵,用于 FPD 負載鎖定應用。使用這種新型泵,客戶可以顯著降低其運營成本和安裝時間,特別適用于等離子體氣相沉積 (PVD) 應用的大負載鎖定腔室。此外,每個負載鎖定腔室需要的泵會更少,從而減少了客戶的安裝時間、系統(tǒng)化成本、維護和公共設施消耗。
“綠色模式”可減少閑置期間的公共設施使用、降低成本并有助于提高環(huán)境績效

東莞市鴻鑫真空設備有限公司

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